新势力光电 供应 刻划光栅，过程包括：选择合适的基底材料（玻璃或铜），抛光，真空沉积铝薄膜，刻划等间距的平行凹槽。选择刻划光栅需考虑：波长范围、效率、闪耀波长、杂散光和分辨率。根据具体应用，新势力光电可提供定制服务。




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