新势力光电 供应 膜厚测量仪，用于测量10nm~250μm薄膜厚度，测量系统包括：宽带光源、CCD光谱仪、传输光纤、样品测试台、测量分析软件。该系列膜厚测量仪适合于实验室或者在线检测，被测材料包括：氧化层、氮化硅薄膜、感光胶片、以及其它类型的薄膜，也可测量钢、铝、铜、陶瓷等物质上的抗反射涂层、抗膜涂层。 

NanoCalc-VIS（光谱范围 400-850nm，膜厚范围 50nm-20μm）

NanoCalc-XR（光谱范围 250-1050nm，膜厚范围 10nm-100μm）

NanoCalc-DUV（光谱范围 190-1100nm，膜厚范围 1nm-100μm）

NanoCalc-NIR（光谱范围 900-1700nm，膜厚范围 100nm-250μm）

a 膜厚分辨率：0.1nm。

b 准确度：<1%（100nm-100um）。

c 测量速度：100ms~1s。

d 膜层数：三层（基于椭偏仪底层软件，可达10层）。

e 快速响应：适合在线测量。

f 基底材料：硅 /  塑料 /钢 / 铝/ 铜 / 陶瓷。

g 新型号：NanoCalc-MIK中整合摄影机。

h 材料库： 400种材料 n 和 k 值，且可添加。

i 应用场合：半导体薄膜 / 氧化物 / SiNx / 感光保护膜。

a 膜厚仪：NanoCalc。

b 反射探头：NC-2UV/VIS400-2。

c 探头/样品支架：NC-Stage。

d 参考硅片：Step-Wafer。

e 操作软件：NanoCalc-1。

f 选配模块：RB-UV/VIS/NIR（备用灯泡）、Mapping-6''（6''电控样品台）、NanoCalc Mapping（Mapping-6''控制软件）。

Supported by NewOpto.com