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椭偏仪 新势力光电 供应 椭偏仪，用于测量平整半透明薄膜材料的光学参数和厚度，例如硅晶圆片和玻璃片，测量系统包括：宽带光源、CCD光谱仪、导光器件、起偏器、样品测试台、检偏器、光学增强元件、测量分析软件。该系列椭偏仪适合于测量薄膜厚度、光学参数以及材料微结构特性。椭偏仪应用广泛，包括：光学薄膜、保护膜、光刻材料、半导体工业、生物医疗、化学。 光谱式椭偏仪，检测原理：一束偏振光经过物体表面或界面，其偏振极化状态会被改变。椭偏仪通过探测样品表面的反射光来测量此变化，即反射光和入射光的振幅及相位的改变量，用以决定表面薄膜的光学常数（n、k 值）和膜厚。 SpecEI-2000-VIS/NIR（400-1000nm） & SpecEI-2000-UV/VIS/NIR（300-1000nm） a 膜厚分辨率：0.1nm。 b 测量时间：7~13s。
c 光束直径：400μm×1200μm。
d 入射角度：70°。
e 测量指标：光学常数（n & k）和 膜厚。
f 快速响应：实验室测量或者在线测量。
g 基底材料：硅圆晶片、玻璃等。
h 数学模型：折射率、谐振子、柯西、塞耳迈耶尔、麦克斯韦-加尼特等模型。
i 应用场合：光学镀膜 / 保护膜 / 聚合物 / 光刻材料 / 平面平板显示 / 导体集成电路。
a 厚度测量，n & k 值测量，psi & delta 测量。 b 7秒全光谱数据记录。
c 多种拟合模型选择。
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激光器